論文主要以半導體鍺和貴金屬金兩種材料為對象，研究了白光干涉法、表面等離子體共振法和外差干涉法實(shí)現納米級薄膜厚度準確測量的可行性。由于不同材料薄膜的特性不同，所適用的測量方法也不同。半導體鍺膜具有折射率高，在通信波段（1550nm附近）不透明的特點(diǎn)，選擇采用白光干涉的測量方法；而厚度更薄的金膜的折射率為復數，且能激發(fā)明顯的表面等離子體效應，因而可借助基于表面等離子體共振的測量方法；為了進(jìn)一步改善測量的精度，論文還研究了外差干涉測量法，通過(guò)引入高精度的相位解調手段，檢測P光與S光之間的相位差提升厚度測量的精度。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過(guò)對干涉曲線(xiàn)的分析實(shí)現對薄膜的厚度分布的測量和分析。常州原裝膜厚儀
根據以上分析可知，白光干涉時(shí)域解調方案的優(yōu)點(diǎn)是：①能夠實(shí)現測量；②抗干擾能力強，系統的分辨率與光源輸出功率的波動(dòng)，光源的波長(cháng)漂移以及外界環(huán)境對光纖的擾動(dòng)等因素無(wú)關(guān)；③測量精度與零級干涉條紋的確定精度以及反射鏡的精度有關(guān)；④結構簡(jiǎn)單，成本較低。但是，時(shí)域解調方法需要借助掃描部件移動(dòng)干涉儀一端的反射鏡來(lái)進(jìn)行相位補償，所以?huà)呙柩b置的分辨率將影響系統的精度。采用這種解調方案的測量分辨率一般是幾個(gè)微米，達到亞微米的分辨率，主要受機械掃描部件的分辨率和穩定性限制。文獻[46]所報道的位移掃描的分辨率可以達到0.54μm。當所測光程差較小時(shí)，F-P腔前后表面干涉峰值相距很近，難以區分，此時(shí)時(shí)域解調方案的應用受到限制。益陽(yáng)品牌膜厚儀白光干涉膜厚測量技術(shù)是一種測量薄膜厚度的方法。
白光干涉測量技術(shù)，也被稱(chēng)為光學(xué)低相干干涉測量技術(shù)，使用的是低相干的寬譜光源，例如超輻射發(fā)光二極管、發(fā)光二極管等。同所有的光學(xué)干涉原理一樣，白光干涉同樣是通過(guò)觀(guān)察干涉圖樣的變化來(lái)分析干涉光程差的變化，進(jìn)而通過(guò)各種解調方案實(shí)現對待測物理量的測量。采用寬譜光源的優(yōu)點(diǎn)是由于白光光源的相干長(cháng)度很?。ㄒ话銥閹孜⒚椎綆资⒚字g），所有波長(cháng)的零級干涉條紋重合于主極大值，即中心條紋，與零光程差的位置對應。中心零級干涉條紋的存在使測量有了一個(gè)可靠的位置的參考值，從而只用一個(gè)干涉儀即可實(shí)現對被測物理量的測量，克服了傳統干涉儀無(wú)法實(shí)現測量的缺點(diǎn)。同時(shí)，相比于其他測量技術(shù),白光干涉測量方法還具有對環(huán)境不敏感、抗干擾能力強、測量的動(dòng)態(tài)范圍大、結構簡(jiǎn)單和成本低廉等優(yōu)點(diǎn)。目前，經(jīng)過(guò)幾十年的研究與發(fā)展，白光干涉技術(shù)在膜厚、壓力、溫度、應變、位移等等測量領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛的應用。
針對靶丸自身獨特的特點(diǎn)及極端實(shí)驗條件需求，使得靶丸參數的測試工作變得異常復雜。如何精確地測定靶丸的光學(xué)參數，一直是激光聚變研究者非常關(guān)注的課題。由于光學(xué)測量方法具有無(wú)損、非接觸、測量效率高、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)越性，靶丸參數測量通常采用光學(xué)測量方式。常用的光學(xué)參數測量手段很多，目前，常用于測量靶丸幾何參數或光學(xué)參數的測量方法有白光干涉法、光學(xué)顯微干涉法、激光差動(dòng)共焦法等。靶丸殼層折射率是沖擊波分時(shí)調控實(shí)驗研究中的重要參數，因此，精密測量靶丸殼層折射率十分有意義。而常用的折射率測量方法[13]，如橢圓偏振法、折射率匹配法、白光光譜法、布儒斯特角法等。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過(guò)對干涉圖像的分析實(shí)現對薄膜的表面和內部結構測量。
基于表面等離子體共振傳感的測量方案，利用共振曲線(xiàn)的三個(gè)特征參量—共振角、半高寬和反射率小值，通過(guò)反演計算得到待測金屬薄膜的厚度。該測量方案可同時(shí)得到金屬薄膜的介電常數和厚度，操作方法簡(jiǎn)單。我們利用Kretschmann型結構的表面等離子體共振實(shí)驗系統，測得金膜在入射光波長(cháng)分別為632.8nm和652.1nm時(shí)的共振曲線(xiàn)，由此得到金膜的厚度為55.2nm。由于該方案是一種強度測量方案，測量精度受環(huán)境影響較大，且測量結果存在多值性的問(wèn)題，所以我們進(jìn)一步對偏振外差干涉的改進(jìn)方案進(jìn)行了理論分析，根據P光和S光之間相位差的變化實(shí)現厚度測量。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應用于光學(xué)通信中的薄膜透過(guò)率測量。安慶有哪些膜厚儀
白光干涉膜厚測量技術(shù)可以對薄膜的厚度、反射率、折射率等光學(xué)參數進(jìn)行測量。常州原裝膜厚儀
靶丸殼層折射率、厚度及其分布參數是激光慣性約束聚變（ICF）物理實(shí)驗中非常關(guān)鍵的參數，精密測量靶丸殼層折射率、厚度及其分布對ICF精密物理實(shí)驗研究具有非常重要的意義。由于靶丸尺寸微?。▉喓撩琢考墸?、結構特殊（球形結構）、測量精度要求高，如何實(shí)現靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數測量技術(shù)研究中重要的研究?jì)热?。本論文針對靶丸殼層折射率及厚度分布的精密測量需求，開(kāi)展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)研究。常州原裝膜厚儀