硬質(zhì)陽(yáng)極氧化過(guò)程的機理與前述的普通陽(yáng)極氧化成膜機理一樣，都是膜的電化學(xué)生成與化學(xué)溶解兩個(gè)過(guò)程相互轉變的結果。但是，為了得到硬度高、膜層厚的氧化膜，在陽(yáng)極氧化過(guò)程中，必須降低槽液溫度，以便降低氧化膜的溶解速度。由于硬質(zhì)氧化膜厚、致密，具有較高的電阻，影響陽(yáng)極氧化過(guò)程的進(jìn)行。為了使氧化正常進(jìn)行，并達到要求的厚度，勢必要提高槽電壓來(lái)克服電阻的影響，使陽(yáng)極電流保持一定。由于電壓升高，電流過(guò)大，會(huì )產(chǎn)生大量的熱，造成零件附近溶液的溫度升高，加速氧化膜的溶解。為了消除這一影響，需要采用制冷設備進(jìn)行人工強制降溫，并用凈化的壓縮空氣強烈攪拌，帶走零件周?chē)臒崃?。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司于提供硬質(zhì)氧化，有需要可以聯(lián)系我司哦！青浦鋁硬質(zhì)氧化單位
硬質(zhì)陽(yáng)極氧化和普通陽(yáng)極氧化的區別：硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內部，50%附著(zhù)在鋁合金表面，因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大，內孔變小。一、操作條件方面的差異：1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過(guò)高易出現粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對來(lái)說(shuō)溫度越低硬質(zhì)越高。2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時(shí)高達120V。二、膜層性能方面的差異：1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較??；硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過(guò)低達不到硬度≥300HV的要求。2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙（微觀(guān)，和基體表面粗糙度有關(guān)）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。5、適用場(chǎng)合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場(chǎng)合。無(wú)錫外觀(guān)件硬質(zhì)氧化廠(chǎng)家昆山顯榮電子工業(yè)有限公司為您提供硬質(zhì)氧化，有需要可以聯(lián)系我司哦！
在鋁硬質(zhì)氧化染色整個(gè)流程中，因為氧化工藝原因造成染色不良是比較普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致是染色時(shí)獲得均勻一致顏色的前提和基礎，為獲得均勻一致的氧化膜，保證足夠的循環(huán)量，冷卻量，保證良好的導電性是舉足輕重的，此外就是氧化工藝的穩定性。硫酸濃度，控制在180—200g／l。稍高的硫酸濃度可促進(jìn)氧化膜的溶解反應加快，利于孔隙的擴張，更易于染色；鋁離子濃度，控制在5—15g／l。鋁離子小于5g／l，生成的氧化膜吸附能力降低，影響上色速度，鋁離子大于15g／l時(shí)，氧化膜的均勻性受到影響，容易出現不規則的膜層。鋁硬質(zhì)氧化溫度，控制在20℃左右，氧化槽液的溫度對染色的影響非常明顯，過(guò)低的溫度致使氧化膜的膜孔致密，染色速度明顯減緩；溫度過(guò)高，氧化膜蔬松，容易粉化，不利于染色的控制，氧化槽的溫差變化應在2℃以?xún)葹橐恕?/p>
硬質(zhì)陽(yáng)極氧化又稱(chēng)厚層陽(yáng)極氧化。它是50年代發(fā)展起來(lái)的新技術(shù)，氧化膜的厚度可達250um，在純鋁上獲得的氧化膜的顯微硬度可達1500HV，在鋁合金上可達300~500HV。由于硬質(zhì)陽(yáng)極氧化有許多獨特的物理化學(xué)性能，因此得到了普遍的應用。硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜，既有很高的硬度和耐磨性，又有良好的絕熱性及絕緣性。厚度為100um氧化膜，可耐電壓2000~2500V。在海洋及一般工業(yè)大氣中均有良好的耐蝕性。制取硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜方法很多，如硫酸法、草酸法及有機酸法等等。其中，以硫酸法應用廣，下面由深圳電鍍廠(chǎng)介紹一下硫酸法制取硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的過(guò)程。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司硬質(zhì)氧化值得用戶(hù)放心。
硬質(zhì)氧化全稱(chēng)是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理。硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜一般要求厚度為25-150um，大部分硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜的厚度為50-80um，膜厚小于25um的硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜，用于齒鍵和螺線(xiàn)等使用場(chǎng)合的零部件，耐磨或絕緣用的陽(yáng)極氧化膜厚度約為50um，在某些特殊工藝條件下，要求生產(chǎn)厚度為125um以上的硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜，但是必須注意陽(yáng)極氧化膜越厚，其外層的顯微硬度可以越低，膜層表面的粗糙度增加。硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的槽液，一般是硫酸溶液以及硫酸添加有機酸，如草酸、氨基磺酸等。另外，可通過(guò)降低陽(yáng)極氧化溫度或降低硫酸濃度來(lái)實(shí)現硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理。對于銅含量大于5%或硅含量大于8%的變形鋁合金，或者高硅的壓鑄造鋁合金，也許還應考慮增加一些陽(yáng)極氧化的特殊措施。例如：對于2XXX系鋁合金，為了避免鋁合金在陽(yáng)極氧化過(guò)程中被燒損，可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作為電解槽液，電流密度也應該提高到2.5A/dm以上。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司是一家專(zhuān)業(yè)提供硬質(zhì)氧化的公司，有想法的可以來(lái)電咨詢(xún)！常熟純鋁硬質(zhì)氧化報價(jià)
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新型硬質(zhì)氧化功能覆層技術(shù)，包括低溫化學(xué)硬質(zhì)氧化涂層技術(shù)及超深層鋁合金硬質(zhì)氧化改性技術(shù)，它運用物理、化學(xué)或物理化學(xué)等技術(shù)手段來(lái)改變“材料及其鋁合金硬質(zhì)氧化成份和組織結構”，其特點(diǎn)是保持基體材料固有的特征，又賦予硬質(zhì)氧化所要求的各種性能，從而適應各種技術(shù)和服役環(huán)境對材料的特殊要求，因而它是制造和材料學(xué)科活躍的技術(shù)領(lǐng)域，又是涉及硬質(zhì)氧化處理與涂層技術(shù)的交叉學(xué)科。其優(yōu)勢在于能以極少的材料和能源消耗制備出基體材料難以甚至無(wú)法獲得的性能優(yōu)異的硬質(zhì)氧化薄層，從而獲得經(jīng)濟效益，它是一種好高效的硬質(zhì)氧化改性與涂層技術(shù)。高效的硬質(zhì)氧化改性與涂層技術(shù)其范圍廣闊：如熱化學(xué)硬質(zhì)氧化技術(shù);物理的沉積;化學(xué)氣相沉積;物理化學(xué)氣相沉積技術(shù);高能等離體硬質(zhì)氧化涂層技術(shù);金剛石薄膜涂層;多元多層復合涂層技術(shù);硬質(zhì)氧化改性及涂層性能預測及剪栽技術(shù);性能測試與壽命評估等。青浦鋁硬質(zhì)氧化單位