與激光光源相比以白光的寬光譜光源由于具有短相干長(cháng)度的特點(diǎn)使得兩光束只有在光程差極小的情況下才能發(fā)生干涉因此不會(huì )產(chǎn)生干擾條紋。同時(shí)由于白光干涉產(chǎn)生的干涉條紋具有明顯的零光程差位置避免了干涉級次不確定的問(wèn)題。本文以白光干涉原理為理論基礎對單層透明薄膜厚度測量尤其對厚度小于光源相干長(cháng)度的薄膜厚度測量進(jìn)行了研究。首先從白光干涉測量薄膜厚度的原理出發(fā)、分別詳細闡述了白光干涉原理和薄膜測厚原理。接著(zhù)在金相顯微鏡的基礎上構建了型垂直白光掃描系統作為實(shí)驗中測試薄膜厚度的儀器并利用白光干涉原理對的位移量進(jìn)行了標定。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過(guò)對干涉曲線(xiàn)的分析實(shí)現對薄膜的厚度和形貌的聯(lián)合測量和分析。黑龍江膜厚儀供應
靶丸殼層折射率、厚度及其分布參數是激光慣性約束聚變（ICF）物理實(shí)驗中非常關(guān)鍵的參數，精密測量靶丸殼層折射率、厚度及其分布對ICF精密物理實(shí)驗研究具有非常重要的意義。由于靶丸尺寸微?。▉喓撩琢考墸?、結構特殊（球形結構）、測量精度要求高，如何實(shí)現靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數測量技術(shù)研究中重要的研究?jì)热?。本論文針對靶丸殼層折射率及厚度分布的精密測量需求，開(kāi)展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)研究。黑龍江膜厚儀供應白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應用于光學(xué)傳感器中的薄膜厚度測量。
為限度提高靶丸內爆壓縮效率，期望靶丸所有幾何參數、物性參數均為理想球對稱(chēng)狀態(tài)。因此，需要對靶丸殼層厚度分布進(jìn)行精密的檢測。靶丸殼層厚度常用的測量手法有X射線(xiàn)顯微輻照法、激光差動(dòng)共焦法、白光干涉法等。下面分別介紹了各個(gè)方法的特點(diǎn)與不足，以及各種測量方法的應用領(lǐng)域。白光干涉法[30]是以白光作為光源，寬光譜的白光準直后經(jīng)分光棱鏡分成兩束光，一束光入射到參考鏡。一束光入射到待測樣品。由計算機控制壓電陶瓷(PZT)沿Z軸方向進(jìn)行掃描，當兩路之間的光程差為零時(shí)，在分光棱鏡匯聚后再次被分成兩束，一束光通過(guò)光纖傳輸，并由光譜儀收集，另一束則被傳遞到CCD相機，用于樣品觀(guān)測。利用光譜分析算法對干涉信號圖進(jìn)行分析得到薄膜的厚度。該方法能應用靶丸殼層壁厚的測量，但是該測量方法需要已知靶丸殼層材料的折射率，同時(shí)，該方法也難以實(shí)現靶丸殼層厚度分布的測量。
極值法求解過(guò)程計算簡(jiǎn)單，速度快，同時(shí)確定薄膜的多個(gè)光學(xué)常數及解決多值性問(wèn)題，測試范圍廣，但沒(méi)有考慮薄膜均勻性和基底色散的因素，以至于精度不夠高。此外，由于受曲線(xiàn)擬合精度的限制，該方法對膜厚的測量范圍有要求，通常用這種方法測量的薄膜厚度應大于200nm且小于10μm，以確保光譜信號中的干涉波峰數恰當。全光譜擬合法是基于客觀(guān)條件或基本常識來(lái)設置每個(gè)擬合參數上限、下限，并為該區域的薄膜生成一組或多組光學(xué)參數及厚度的初始值，引入適合的色散模型，再根據麥克斯韋方程組的推導。這樣求得的值自然和實(shí)際的透過(guò)率和反射率（通過(guò)光學(xué)系統直接測量的薄膜透射率或反射率）有所不同，建立評價(jià)函數，當計算的透過(guò)率/反射率與實(shí)際值之間的偏差小時(shí)，我們就可以認為預設的初始值就是要測量的薄膜參數。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應用于光學(xué)元件制造中的薄膜厚度控制。
微納制造技術(shù)的發(fā)展推動(dòng)著(zhù)檢測技術(shù)向微納領(lǐng)域進(jìn)軍，微結構和薄膜結構作為微納器件中的重要組成部分，在半導體、醫學(xué)、航天航空、現代制造等領(lǐng)域得到了廣泛的應用，由于其微小和精細的特征，傳統檢測方法不能滿(mǎn)足要求。白光干涉法具有非接觸、無(wú)損傷、高精度等特點(diǎn)，被廣泛應用在微納檢測領(lǐng)域，另外光譜測量具有高效率、測量速度快的優(yōu)點(diǎn)。因此，本文提出了白光干涉光譜測量方法并搭建了測量系統。和傳統白光掃描干涉方法相比，其特點(diǎn)是具有較強的環(huán)境噪聲抵御能力，并且測量速度較快。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現對薄膜的大范圍測量和分析。隨州原裝膜厚儀
白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應用于激光加工中的薄膜吸收率測量。黑龍江膜厚儀供應
基于白光干涉光譜單峰值波長(cháng)移動(dòng)的鍺膜厚度測量方案研究：在對比研究目前常用的白光干涉測量方案的基礎上，我們發(fā)現當兩干涉光束的光程差非常小導致其干涉光譜只有一個(gè)干涉峰時(shí)，常用的基于兩相鄰干涉峰間距的解調方案不再適用。為此，我們提出了適用于極小光程差的基于干涉光譜單峰值波長(cháng)移動(dòng)的測量方案。干涉光譜的峰值波長(cháng)會(huì )隨著(zhù)光程差的增大出現周期性的紅移和藍移，當光程差在較小范圍內變化時(shí)，峰值波長(cháng)的移動(dòng)與光程差成正比。根據這一原理，搭建了光纖白光干涉溫度傳感系統對這一測量解調方案進(jìn)行驗證，得到了光纖端面半導體鍺薄膜的厚度。實(shí)驗結果顯示鍺膜的厚度為，與臺階儀測量結果存在，這是因為薄膜表面本身并不光滑，臺階儀的測量結果只能作為參考值。鍺膜厚度測量誤差主要來(lái)自光源的波長(cháng)漂移和溫度控制誤差。黑龍江膜厚儀供應