有人研究了不同有機配體對此類(lèi)光刻膠光刻性能的影響。有機配體會(huì )影響光刻膠的靈敏度。通過(guò)配體交換法，他們制備了反二甲基丙烯酸（DMA）和鄰甲基苯甲酸（TA）配體的HfO2、ZrO2體系。其中HfO2-DMA和ZrO2-DMA體系的靈敏度較高，為1.6~2.4mJ·cm?2，可實(shí)現20nm線(xiàn)寬的光刻圖案。此外，配體的種類(lèi)還將影響光刻膠的溶解性。Li等報道了不同濃度的不同羧酸與ZrO2或HfO2配合之后的溶解度變化情況，發(fā)現不飽和的羧酸配體能獲得更大的溶解性差異。光刻膠所屬的微電子化學(xué)品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域，是典型的技術(shù)密集行業(yè)。蘇州g線(xiàn)光刻膠單體
2005年，研究人員利用美國光源的高數值孔徑微觀(guān)曝光工具評價(jià)了RohmandHaas公司研發(fā)的新型ESCAP光刻膠MET-1K，并將其與先前的EUV-2D光刻膠相比較。與EUV-2D相比，MET-1K添加了更多的防酸擴散劑。使用0.3NA的EUV曝光工具，在90~50nm區間，EUV-2D和MET-1K的圖形質(zhì)量都比較好；但當線(xiàn)寬小于50nm時(shí)，EUV-2D出現明顯的線(xiàn)條坍塌現象，而MET-1K則直到35nm線(xiàn)寬都能保持線(xiàn)條完整。在45nm線(xiàn)寬時(shí)，MET-1K仍能獲得較好的粗糙度，LER達到6.3nm?？梢?jiàn)MET-1K的光刻性能要優(yōu)于EUV-2D。從此，MET-1K逐漸代替EUV-2D，成為新的EUV光刻設備測試用光刻膠。浙江LCD觸摸屏用光刻膠光刻膠按應用領(lǐng)域分類(lèi)，可分為 PCB 光刻膠、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠。
2005 年起，Gonsalves 課題組將陽(yáng)離子基團（硫鎓鹽等）修飾的甲基丙烯酸酯與其他光刻膠單體共聚，制備了一系列側基連接光致產(chǎn)酸劑的光刻膠，聚合物中金剛烷基團的引入可以有效提升抗刻蝕性。這類(lèi)材料與主體材料和產(chǎn)酸劑簡(jiǎn)單共混的配方相比，呈現出更高的靈敏度和對比度。2009年起，Thackeray等則將陰離子基團連接在高分子主鏈上，通過(guò)EUV曝光可以得到的光刻圖形分辨率為22nm光刻圖形，其對應的靈敏度和線(xiàn)邊緣粗糙度分別為12mJ·cm?2和4.2nm。2011年，日本富士膠片的Tamaoki等也報道了一系列對羥基苯乙烯型主鏈鍵合光致產(chǎn)酸劑的高分子光刻膠，并研究了不同產(chǎn)酸劑基團、高分子組成對分辨率、靈敏度和粗糙度的影響，最高分辨率可達17.5nm。
所謂光刻技術(shù)，指的是利用光化學(xué)反應原理把事先準備在掩模版上的圖形轉印到一個(gè)襯底（晶圓）上，使選擇性的刻蝕和離子注入成為可能的過(guò)程，是半導體制造業(yè)的基礎之一。隨著(zhù)半導體制造業(yè)的發(fā)展，光刻技術(shù)從曝光波長(cháng)上來(lái)區分，先后經(jīng)歷了g線(xiàn)（436nm）、i線(xiàn)（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm，包括干式和浸沒(méi)式）和極紫外（EUV，13.5nm）光刻。對應于不同的曝光波長(cháng)，所使用的光刻膠也得到了不斷的發(fā)展。目前7nm和5nm技術(shù)節點(diǎn)已經(jīng)到來(lái)，根據各個(gè)技術(shù)的芯片制造企業(yè)公告，EUV光刻技術(shù)已正式導入集成電路制造工藝。在每一代的光刻技術(shù)中，光刻膠都是實(shí)現光刻過(guò)程的關(guān)鍵材料之一。光刻膠也稱(chēng)為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，受到光照后特性會(huì )發(fā)生改變，主要應用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領(lǐng)域。
由于EUV光刻膠膜較薄，通常小于100nm，對于精細的線(xiàn)條，甚至不足50nm，因此光刻膠頂部與底部的光強差異便顯得不那么重要了。而很長(cháng)一段時(shí)間以來(lái)，限制EUV光刻膠發(fā)展的都是光源功率太低，因此研發(fā)人員開(kāi)始反過(guò)來(lái)選用對EUV光吸收更強的元素來(lái)構建光刻膠主體材料。于是，一系列含有金屬的EUV光刻膠得到了發(fā)展，其中含金屬納米顆粒光刻膠是其中的典型。2010年，Ober課題組和Giannelis課題組首度報道了基于HfO2的金屬納米顆粒光刻膠，并研究了其作為193nm光刻膠和電子束光刻膠的可能性。隨后，他們將這一體系用于EUV光刻，并將氧化物種類(lèi)拓寬至ZrO2。他們以異丙醇鉿（或鋯）和甲基丙烯酸（MAA）為原料，通過(guò)溶膠-凝膠法制備了穩定的粒徑在2~3nm的核-殼結構納米顆粒。納米顆粒以HfO2或ZrO2為核，具有很高的抗刻蝕性和對EUV光的吸收能力；而有機酸殼層不但是光刻膠曝光前后溶解度改變的關(guān)鍵，還能使納米顆粒穩定地分散于溶劑之中，確保光刻膠的成膜性。ZrO2-MAA納米材料加入自由基引發(fā)劑后可實(shí)現負性光刻，在4.2mJ·cm?2的劑量下獲得22nm寬的線(xiàn)條；而加入光致產(chǎn)酸劑曝光并后烘，利用TMAH顯影則可實(shí)現正性光刻。目前，我國光刻膠自給率較低，生產(chǎn)也主要集中在中低端產(chǎn)品，國產(chǎn)替代的空間廣闊。華東PCB光刻膠集成電路材料
光刻膠通過(guò)光化學(xué)反應，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。蘇州g線(xiàn)光刻膠單體
環(huán)狀單分子樹(shù)脂中除了杯芳烴類(lèi)物質(zhì)以外，還有一類(lèi)被稱(chēng)為“水車(chē)”（Noria）的光刻膠，該類(lèi)化合物由戊二醛和間苯二酚縮合而成，是一種中心空腔的雙層環(huán)梯狀結構分子，外形像傳統的水車(chē)，因此得名，起初在2006年時(shí)由日本神奈川大學(xué)的Nishikubo課題組報道出來(lái)。隨后，日本JSR公司的Maruyama課題組將Noria改性，通過(guò)金剛烷基團保護得到了半周期為22nm的光刻圖形。但是這種光刻膠的靈敏度較低、粗糙度較大，仍需進(jìn)一步改進(jìn)才能推廣應用。蘇州g線(xiàn)光刻膠單體