【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問(wèn)題】①提高卷繞速度的問(wèn)題。卷繞速度即是帶狀基材運動(dòng)的線(xiàn)速度，它是卷繞機構的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min，可見(jiàn)隨著(zhù)鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線(xiàn)速恒定問(wèn)題。這一問(wèn)題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線(xiàn)速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問(wèn)題。隨著(zhù)卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過(guò)程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴重時(shí)會(huì )造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問(wèn)題。真空鍍膜機廠(chǎng)家qian十。重慶射頻離子源批發(fā)價(jià)格
【真空鍍膜機鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過(guò)長(cháng)是什么原因？】(1)真空室有漏氣現象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現象而沒(méi)有經(jīng)過(guò)檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長(cháng)時(shí)間都不能抽得上來(lái)的；(2)即使真空室沒(méi)有漏氣，因為塑料產(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達到。真空室內太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。（3）也許是真空機組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。（4）真空室有漏水。（5）抽空管道有漏氣。天津離子束輔助沉積射頻離子源專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)真空鍍膜機國內有哪些產(chǎn)商？
【真空鍍膜機真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種，也是簡(jiǎn)單易行的真空系統檢漏方法，因為它不需要用額外特殊的儀器或者特殊物質(zhì)，通過(guò)測量規管就可以檢測真空系統的總漏率，從而確定真空系統或部件是否滿(mǎn)足工作要求。雖然勝在簡(jiǎn)單，但也存在局限。如果真空系統或容器存在漏孔的話(huà)，靜態(tài)升壓法是無(wú)法確定漏孔所在的。因此在確定系統是否有漏孔的同時(shí)還需要確定其位置的話(huà)，就需要配合其他方法來(lái)進(jìn)行了。靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應的壓力范圍，再關(guān)閉閥門(mén)，隔離真空泵與真空容器，然后用真空計測量記錄真空容器中壓力隨時(shí)間的變化過(guò)程，即可得出泄漏數據?！墩婵障到y抽氣達不到工作壓力有哪些原因》中，螺桿真空泵廠(chǎng)家介紹的判斷方法即是通過(guò)靜態(tài)升壓法實(shí)現的，比較方便。當然在應用過(guò)程中，要提高準確性就要減少其他因素干擾，需要在檢測之前對容器進(jìn)行凈化清洗并烘干，或者用氮氣進(jìn)行沖洗。更嚴格一點(diǎn)可以在測量規管與容器之間設置冷阱，處理釋放的可凝氣體，而對可能存在的漏孔所漏進(jìn)的空氣不會(huì )造成影響。
【真空鍍膜設備維修保養技術(shù)】一、當鍍膜設備工作完成到兩百個(gè)鍍膜的時(shí)候，拆出密封圈，及時(shí)清潔設備環(huán)境（室內環(huán)境）。如何清潔保養？首先我們要使鍍上去的膜層掉落，同時(shí)釋放氫氣，清洗過(guò)程中要注意所使用到的溶液會(huì )灼傷人體的皮膚，所以通常我們要小心謹慎用堿飽和溶液不斷來(lái)回清洗真空適合內部（內壁），再用清水洗刷真空室，并通過(guò)抹布沾上汽油擦拭抽閥里面的污漬。二、當閥泵連續工作一個(gè)月之后，為保持設備的正常運轉我們需要更換油。將泵啟動(dòng)，擰開(kāi)放油螺栓，使泵內的舊油完全排放出來(lái)。擰回放油螺栓，觀(guān)察油視鏡倒入新油加到一定額度，平常換油時(shí)應將油蓋打開(kāi)，有需要時(shí)用布擦干凈箱內污垢。三、擴散泵連續使用6個(gè)月以上，抽的速度會(huì )顯然變慢，當操作不當應拆去聯(lián)結水管，卸下電爐盤(pán)，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤(pán)，便可以重新開(kāi)機。在重新開(kāi)機前，要注意檢漏工作。首先啟動(dòng)維持泵，關(guān)好da門(mén)，數分鐘后，觀(guān)察擴散泵部分真空度是否達到標準，否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處的密封圈是否正常。真空鍍膜機的培訓資料。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：本申請的束徑約束器通過(guò)驅動(dòng)組件驅動(dòng)滑環(huán)旋轉，以使葉片轉動(dòng)來(lái)進(jìn)行光闌的大小調節，調節方便且調節精度高；而采用包含該束徑約束器的束徑控制裝置進(jìn)行束徑調節時(shí)，通過(guò)在控制器上輸入離子束束徑值即可實(shí)現光闌大小的調節，無(wú)需關(guān)閉離子源和打開(kāi)真空腔體，調節效率高、自動(dòng)化程度好。附圖說(shuō)明圖1為現有技術(shù)中采用曲面柵網(wǎng)調節束徑的結構示意圖。圖2為本申請中離子束采用平面柵網(wǎng)的結構示意圖。圖3為本申請中束徑約束器結構示意圖。圖4為圖3的示意圖。圖5為為圖4的進(jìn)一步示意圖。圖6為本申請中的葉片結構示意圖。圖7為本申請中的束徑控制裝置的示意圖。具體實(shí)施方式下面詳細描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類(lèi)似的標號表示相同或類(lèi)似的元件或具有相同或類(lèi)似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，*用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。如圖3至6所示為本申請的束徑約束器的結構示意圖，如圖所示，該射頻離子源離子束束徑約束器，包括底座1、多個(gè)葉片2及驅動(dòng)機構，底座1上設置有可供離子束穿過(guò)的中空結構11，多個(gè)葉片2設于底座1一端并環(huán)繞底座1的中空結構11呈圓周排布。真空鍍膜機類(lèi)型推薦。天津離子束輔助沉積射頻離子源專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)
射頻離子源是未來(lái)科技發(fā)展的重要方向，具有廣闊的應用前景。重慶射頻離子源批發(fā)價(jià)格
【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場(chǎng)，在此區電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個(gè)數量級)，濺射速度可達0.1—1um/min膜層附著(zhù)力較蒸鍍佳，是目前實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統，濺射源和控制系統組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導體用，須可災弧。射頻：13.56MHZ，非導體用。脈沖：泛用，新發(fā)展出重慶射頻離子源批發(fā)價(jià)格